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CTIMES / Euv
科技
典故		 从演化到多元整合──浅介Bus规格标准的变迁

一个想要满足于不同市场需求的通用型Bus标准界面，能否在不断升级传输速度及加大带宽之外，达到速度、容量、质量等多元整合、提升效能为一体的愿望？
台积电32奈米新制程可支持模拟与数字电路 (2007.12.13)
台积电成功试产可同时支持模拟与数字电路的32奈米制程技术。据了解，台积电已于美国华盛顿特区所举行的国际电子组件大会（IEDM）中发表论文，并宣布成功开发可同时支持模拟及数字电路的32奈米制程技术，此外，台积电并成功以193nm浸润式微影双重曝影技术，成功试产32奈米的2Mb静态随机存取内存
65到45：半导体制程微细化技术再突破 (2006.11.27)
当半导体微细化制程从65奈米迈向45奈米、甚至晶片结构体尺寸将朝向32或是22奈米之际，我们将会面临什么未知的物理性质变化？为了追寻更微小体积、切割更多晶片的商业成本效益
面对技术/市场微影设备发展加倍艰辛 (2002.10.29)
根据外电指出，全球微影设备市场将下降为32亿美元，出货量衰退达433台，比去年的45亿美元减少29％，出货量亦比去年的822台少了47％。事实上，有业者指出，目前微影发展不论就市场或技术来看，都面临一定的发展瓶颈－除了市值下降外，技术研发成本赤不断上升
抢占领先地位欧、日巨资投资EUV技术 (2002.10.28)
自英特尔（Intel）名誉主席Gordon Moore于今年7月对外表示，唯有开发EUV（超紫外光线）技衖，摩尔定律才能再次回到二年一个周期的定律，根据外电消息，欧洲、日本为达到半导体技术领先的目标，不惜巨资投资开发EUV系统；众多欧盟成员国未来将对EUV各项领域，投资1亿美元研发；日本多企业也分别成立EUV计画小组
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2 ASML：高阶逻辑和记忆体EUV微影技术的支出可达两位数成长
3 英特尔晶圆代工完成商用高数值孔径极紫外光微影设备组装
4 ASML：第二季营收主要来自浸润式DUV系统销售动能
5 ASML落实永续价值 加速布局净零碳排
6 默克在日本静冈建设先进材料开发中心 深化半导体产业创新与永续发展
7 乾式光阻技术可有效解决EUV微影制程中的解析度与良率挑战

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