在迎来高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）微影时代之际，比利时微电子研究中心（imec）运算技术及系统／运算系统微缩研究计画的资深??总裁（SVP）Steven Scheer探讨imec与艾司摩尔（ASML）合建的High-NA EUV微影实验室对半导体业的重要性。

由ASML与imec联手在荷兰费尔德霍温建立的微影实验室正式启用，为推动High-NA EUV技术迈向量产立下了里程碑。记忆体和逻辑晶片的顶尖制造商现在可以使用首款0.55NA高数值孔径（high-NA）EUV曝光原型机TWINSCAN EXE:5000及周边基础设施，包含涂布及显影机、量测工具、晶圆及光罩处理系统。在IDM及晶圆代工厂的晶圆厂房开始运作这些微影机台之前，imec与ASML将协助他们降低这项图形化技术的开发风险，并支援他们开发专有的High-NA EUV应用案例。

实验室未来也会开放给更广泛的供应商生态系统来使用。实验室的显影设施将能让他们在High-NA EUV专用材料与设备的工程设计领域成为先锋。实验室的第三类使用者则是imec及其先进图形化研究计画的几位夥伴，该计画推动图形化生态系统朝向High-NA EUV的未来技术世代发展。
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