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眼球追蹤技術新突破 美研究團隊「偏折術」增加三千倍精準度 (2025.04.01)
美國亞利桑那大學的研究團隊近日發表了一項創新方法,有望徹底改變眼球追蹤應用。他們的研究成果發表於《自然通訊》(Nature Communications)期刊,指出將強大的三維成像技術「偏折術」(deflectometry)與先進的計算方法結合,有潛力顯著提升現有的眼球追蹤技術
3D全身攝影技術:皮膚癌早期檢測的新突破 (2025.03.27)
隨著科技的進步,3D攝影技術在醫療領域的應用日益廣泛,其中在皮膚癌早期檢測方面的潛力備受關注。 3D全身攝影系統採用多達92個攝影鏡頭,對患者的皮膚表面進行全面掃描,生成高精度的3D數位虛擬人像
imec採用High-NA EUV單次圖形化 展示20奈米金屬導線電性良率 (2025.03.04)
日前舉行的國際光電工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography and Patterning Conference)上,比利時微電子研究中心(imec)展示首次在20奈米間距金屬導線結構上取得的電性測試(electrical test)結果,這些結構經過高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)的單次曝光之後完成圖形化
富邦產險影像智能辨識系統助力太陽能案場安全 (2025.03.03)
2024年颱風接連來襲,太陽能案場面臨嚴峻檢驗,考量颱風前後之安全檢測皆需仰賴維修人員高處作業將面臨更多風險,富邦產險損害防阻團隊攜手富邦金控數據科學部共同研發「太陽能板異常智能辨識系統」
imec推出無鉛量子點短波紅外線感測器 為自駕和醫療帶來全新氣象 (2024.12.17)
於本周舉行的2024年IEEE國際電子會議(IEDM)上,比利時微電子研究中心(imec)攜手其比利時Q-COMIRSE研究計畫的合作夥伴,展示第一款包含砷化銦(InAs)量子點光電二極體的短波紅外線影像(SWIR)感測器原型
新品上巿 Fluke ii500、ii905和ii915聲學成像儀 (聲像儀) (2024.11.21)
在全球聲學檢測技術領域,福祿克公司一直以其創新精神和卓越品質著稱。近期福祿克將向市場推出3款聲學新品Fluke ii500、ii905和ii915聲學成像儀,以其 “精準、耐用、易用、安全” 的特點,滿足工業現場對高效、可靠檢測的需求
貿澤電子為電子設計工程師提供頂尖醫療技術資源和產品 (2024.10.17)
貿澤電子(Mouser Electronics)推出內容隨時更新的醫療資源中心,探索徹底改變醫療保健產業並且拯救生命的技術。隨著數位轉型的蓬勃發展,醫療保健系統突飛猛進,實現更快、更準確的診斷,大幅縮短了等待時間,而且還採用各種尖端的數位療法
台歐共建全球最大6G實驗網 促30家台廠交流享商機 (2024.10.11)
基於6G技術發展正處於關鍵階段,經濟部產業技術司日前假台大醫院國際會議中心與歐盟執委會資通訊網路暨科技總署(DG CONNECT)共同舉辦「2024台歐盟6G SNS聯合研討會(EU-Taiwan Joint 6G SNS Workshop)」
2024台北國際自動化展後報導:機電大廠助迎接碳有價年代 (2024.09.29)
碳定價時代來臨之際,今年台北國際自動化展,機電大廠早已洞燭機先,紛紛推出AI數位化與節能減碳解決方案,展現產業齊心投入綠色轉型的決心。
歐姆龍X射線自動檢查平台 有效解決晶片檢查量產化和自動化挑戰 (2024.09.05)
近年來,半導體產業在微型化領域,對於小晶片(chiplets)的整合技術進行封裝的需求正不斷增加。與傳統平面設計相比,小晶片的結構夠為複雜,並且採用3D封裝,這對於檢測精度也增加了嚴苛的要求
Spectricity與Lululab簽署合作備忘錄 共同開發多光譜成像皮膚分析應用程式 (2024.08.26)
Spectricity與Lululab宣佈簽署合作備忘錄(MOU),概述了雙方將合作展示基於行動設備的多光譜成像技術皮膚分析應用。透過此次合作,雙方將共同開發皮膚分析的新應用,並將其引入移動平台,推向市場
[自動化展] FLUKE以先進技術 力助客戶確保生產安全與能源效益 (2024.08.23)
在2024年台北國際自動化大展中,FLUKE推出了多款創新產品,包括FLUKE全系列熱像儀、FLUKE太陽能系統量測工具、FLUKE 1770系列電能記錄與電力品質分析儀,以及FLUKE ii910聲學成像儀
ASML與imec成立High-NA EUV微影實驗室 (2024.06.05)
比利時微電子研究中心(imec)與艾司摩爾(ASML)共同宣布,雙方於荷蘭費爾德霍溫合作開設的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)微影實驗室正式啟用,為尖端的邏輯、記憶體晶片商以及先進的材料、設備商提供第一部高數值孔徑(high-NA)極紫外光(EUV)曝光機原型TWINSCAN EXE:5000以及相關的製程和量測工具
先進AI視覺系統—以iToF解鎖3D立體空間 (2024.05.29)
在整個AI產業中,視覺系統扮演極重要的角色。由於iToF對於距離與空間的重現具有高度的可靠度外,還有解析度的優勢。本文敘述iToF感測和技術的原理、組成元件、距離計算方式及成像技術的應用
Imec展示高數值孔徑EUV生態系統進展 率先導入ASML曝光機 (2024.02.26)
於本周舉行的2024年國際光學工程學會(SPIE)先進微影成形技術會議(Advanced Lithography and Patterning Conference)上,比利時微電子研究中心(imec)將呈現在極紫外光(EUV)製程、光罩和量測技術方面取得的進展,這些技術都在為實現高數值孔徑(high-NA)EUV微影應用而籌備
Basler參與工研院先進封裝製程設備研討會 探討AOI應用 (2023.12.22)
Basler受邀參與由工業技術研究院 (ITRI) 與台灣電子設備協會 (TEEIA) 舉辦之先進封裝製程設備前瞻技術研討會,與業界先進一起探討自動光學檢測 (AOI) 在封裝產業的技術發展與應用
突破相機性能極限 imec展示全新次微米像素彩色成像技術 (2023.12.12)
於本周舉行的2023年IEEE國際電子會議(IEDM)上,比利時微電子研究中心(imec)展示了一套能在次微米(sib-micron)等級的解析度下忠實分割色彩的全新技術,採用的是在12吋晶圓上製造的傳統後段製程
Basler 憑藉獨一無二的 Pixel Correction Beyond 功能強化 ace 2 X visSWIR 相機產品組合 (2023.11.24)
Basler 推出 ace 2 X visSWIR 相機產品組合,採用 Sony IMX990 和 IMX991 感光元件,將工業成像能力擴展至短波紅外線 (SWIR) 系列。現在機器製造商和專業代工製造商有了理想的切入點,可以利用 SWIR 成像技術和 Basler 獨一無二的 Pixel Correction Beyond 功能,讓各種應用享有優勢
資策會2023數位科技解決方案競賽 浮空投影成像技術獲金獎 (2023.11.10)
為帶動產業轉型升級與培育數位人才,資策會今(10)日舉辦「2023數位科技解決方案競賽」頒獎典禮,以產業出題、人才解題方式進行,共吸引全臺超過50組數位科技好手組隊參與提案,共計有14組團隊獲獎
高光譜成像儀即時檢測 台中榮總打造可攜式普篩DPN工具 (2023.11.10)
根據統計,全球糖尿病人口達到5.4億,糖尿病神經病變(Diabetic Peripheral Neuropathy;DPN)是糖尿病主要的併發症之一,大約有30%糖尿病患者會因為周邊神經病變所引發的疼痛,造成行動上的諸多不便,甚至嚴重影響到生活品質


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