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電動車、5G、新能源:寬能隙元件大顯身手
寬能隙元件的最新技術突破和市場機遇

【作者: 籃貫銘】   2025年02月10日 星期一

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隨著運算需求不斷地提高,新興能源也同步崛起,傳統矽基半導體材料逐漸逼近其物理極限,而寬能隙半導體材料以其優越的性能,漸漸走入主流的電子系統設計之中。它以更高的擊穿電壓、更快的開關速度、更高的工作溫度,讓寬能隙半導體材料在 電動車、5G 通訊、再生能源等領域,展現出巨大的應用潛力,也為半導體產業帶來了一場全新的技術變革。


什麼是寬能矽材料?

寬能隙材料是指禁帶寬度 (band gap) 比傳統半導體材料 (如矽) 更寬的半導體材料。禁帶寬度是指將電子從價帶激發到導帶所需的能量,而寬能隙材料的禁帶寬度通常大於 2 電子伏特 (eV),而矽的禁帶寬度約為 1.1 eV。


至於為什麼寬能隙材料很重要?因為更寬的禁帶寬度賦予了這些材料許多優於傳統半導體的特性,例如更高的擊穿電壓, 可以承受更高的電壓,減少功率損耗,提高效率。再者,更高的工作溫度,可以在更高的溫度下工作,更適合於惡劣環境。其三,更快的開關速度,可以更快地開關,提高效率和性能。


目前常見的寬能隙材料,包含碳化矽(SiC)、氮化鎵(GaN)、以及正逐漸冒出頭角的氧化鎵 (Ga2O3)。


SiC具有高擊穿電壓、高熱導率和高電子飽和速度,廣泛應用於功率電子元件;GaN則具有高電子遷移率和高擊穿電壓,適用於高頻和高功率應用;Ga2O3具有超寬禁帶寬度和高擊穿電壓,是新興的寬能隙材料。



圖一 : 寬能隙材料是指禁帶寬度 (band gap) 比傳統半導體材料 (如矽) 更寬的半導體材料。
圖一 : 寬能隙材料是指禁帶寬度 (band gap) 比傳統半導體材料 (如矽) 更寬的半導體材料。

寬能隙材料的製造進展

雖然寬能隙材料有絕佳的電氣性能,但它的產能與品質一直是相關元件擴大市場的瓶頸所在,因此其製造技術也一直是產業發展的關鍵。近年來,隨著技術的進步,寬能隙材料的製備技術取得了顯著的進展。


首先,就是基板材料的提升。由於高品質的基板材料是製造高性能寬能隙元件的基礎。近期SiC基板的品質和尺寸都有了顯著提升,例如6英吋SiC晶圓已進入普及階段,8英吋量產計劃也已公佈。GaN基板方面,2英吋晶圓趨於普及,4英吋晶圓的量產也正在推進 。然而,製作SiC單晶晶棒比Si晶棒困難許多,且生長時間更長。GaN與Si基板的晶格匹配和熱膨脹係數匹配也存在問題,這些都是寬能隙材料製備過程中需要克服的挑戰。


磊晶技術則是寬能隙材料製備的另一關鍵環節。近年來,MOCVD(有機金屬化學氣相沉積)技術的應用,可以有效提高磊晶層的品質和均勻性,缺陷控制技術的提升,也可以有效降低材料中的缺陷密度,都對寬能隙材料的產量與成本也正面的提升。



圖二 : 近年來,製程技術不斷優化,可以提高元件的性能和可靠性。
圖二 : 近年來,製程技術不斷優化,可以提高元件的性能和可靠性。

寬能隙元件的設計與製造技術

除了材料製備技術,寬能隙元件的設計和製造技術也不斷有新進展。


在元件結構方面.研究人員開發出新的垂直結構的GaN元件,可以有效提高元件的功率密度和效率。部分廠商也開始研發基於Si和SiC基板的GaN產品 。


至於製程技術,寬能隙元件的製造需要特殊的製程技術。近年來,製程技術不斷優化,例如利用新的蝕刻技術和金屬化技術,可以提高元件的性能和可靠性。


特別是高功率的應用中,針對系統的需求,設計人員也提出了新的電路設計,採用軟開關技術的半橋拓撲結構,實現最快的開關速度和最低的轉換損耗。


寬能隙元件的應用領域

在元件與製程技術不斷推陳出新的帶動下,寬能隙元件的應用領域也不斷擴展,以下就是幾個重要的發展項目:


‧ 電動車:寬能隙材料可以提高電動車的效率和續航里程。根據市場研究機構 Yole Developpement 的預測,全球SiC功率元件市場規模將在 2026年達到41億美元,年複合成長率為34%。其中,電動車是SiC功率元件最大的應用市場。


‧ 再生能源:寬能隙材料可以提高太陽能和風能等再生能源的轉換效率。太陽能逆變器為例, 寬能隙元件可以提高逆變器的效率,減少能量損耗。


‧ 5G 通訊:寬能隙材料可以提高5G基站的效率和功率密度。尤其是典型的5G基站的功率需求比4G基站高70%,更需要寬能隙元件的導入。


‧ 消費性電子產品:基於「GaN on Si」技術的快速充電器可以提供 60 瓦以上的功率,同時體積更小、效率更高 。


‧ 其他應用:寬能隙材料還可以應用於照明、醫療設備、航太等領域 。GaAs也被應用於數據通訊和感測器中的VCSEL。


圖四 : ROHM的GaN元件
圖四 : ROHM的GaN元件

寬能隙元件的市場與成長趨勢

儘管整體經濟市場起伏不定,主要的供應商也面臨營運上的困難,但整體而言,寬能隙半導體市場仍處於快速成長階段。根據市場研究機構TrendForce 的預測,2025 年全球功率離散元件及模組市場規模將達 274 億美元,其中SiC功率元件市場市佔率將達12%,GaN功率元件市場占有率則達5% 。另外,根據 Global Information Inc. 的研究報告,預計到2029年,全球寬能隙半導體市場規模將達到434億美元。主要的成長趨力為電動車需求的增加、混合動力和電動車產量的提升、以及寬能隙材料研發活動的投資增加等因素的驅動 。


寬能隙元件的主要業者

寬能隙元件的供應商主要集中在歐洲、美國、日本和中國等地區,其概況如下表:







































廠商 產品與技術
Wolfspeed (原 Cree) 全球領先的 SiC 和 GaN 元件供應商,擁有完整的寬能隙材料和元件產品線。
Infineon 領先的功率半導體廠商,積極佈局寬能隙材料市場。
Rohm 日本主要的 SiC 元件供應商,在 SiC 技術方面具有豐富的經驗。目前也具備有 GaN 的解決方案
STMicroelectronics 歐洲主要的功率半導體廠商,也積極發展 SiC 和 GaN 技術。
Navitas 市場唯一只生產 SiC 與 GaN 元件,並透過台積電 6 吋晶圓製程生產的無晶圓業者。
Nexperia 投資 2 億美元開發下一代寬能隙半導體,包括 SiC 和 GaN,並將在其漢堡工廠建立生產基礎設施。
Texas Instruments (TI) 美國主要的功率半導體廠商,在 GaN 和 SiC 技術方面均有佈局。


值得注意的是,中國持續積極發展化合物半導體產業,透過收購歐洲公司和自主研發,已取得一定的製造技術 。例如,三安光電、泰克天潤、基本半導體等中國廠商都以 IDM(整合元件製造)的模式發展寬能隙半導體市場 。



圖五 : ROHM的GaN開發板。
圖五 : ROHM的GaN開發板。

結語:潛力與挑戰

寬能隙材料是下一代半導體元件的重要發展方向,具有廣闊的應用前景。隨著技術的進步和成本的下降,寬能隙材料的應用將越來越廣泛,並將對電力電子、電動車、再生能源等領域產生深遠的影響。尤其在全球積極追求節能減碳的趨勢下,寬能隙材料的高效率和低能耗特性更顯重要 。


不同種類的寬能隙材料各有其優缺點。例如,SiC具有較高的導熱率和擊穿電場強度,適合高功率應用;GaN具有較高的電子遷移率,適合高頻應用;Ga2O3具有更高的能隙,但電子遷移率較低。



圖六 : 氧化鎵(Ga2O3)被視為第四代之寬能隙元件,圖為β-Ga2O3 的原子晶胞。(source:springer)
圖六 : 氧化鎵(Ga2O3)被視為第四代之寬能隙元件,圖為β-Ga2O3 的原子晶胞。(source:springer)

然而,寬能隙材料的發展也面臨一些挑戰,例如成本、技術成熟度和供應鏈等。克服這些挑戰,需要產業鏈各方的共同努力,包括材料供應商、元件製造商、設備廠商和研究機構等。


總體而言,寬能隙材料元件的擁有極佳的市場機會,但也存在生產與技術的挑戰。而隨著技術的進步和市場的發展,寬能隙材料將在未來扮演越來越重要的角色,並占據高功率電子電路系統設計的關鍵位置。


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