CTIMES - 成型參數

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第一顆電晶體(Transistor)的由來

第二次世界大戰末期，貝爾實驗室開始一項研究計畫，目標是研發出一種體積更小、功能更強大、更快速且可靠的裝置來取代真空管。1947年12月23日，由貝爾實驗室研發的電晶體取代了真空管，優點是體積更小、更可靠、且成本低廉，不僅孕育了今日遍及全球的電子半導體產業，同時也促成電訊電腦業、醫學、太空探測等領域產生戲劇性的改變。

	成型工藝和模具結構對ASA製品表面白斑影響 (2023.07.25) 白斑的生成與成型參數和模具結構有關，對比Moldex3D模擬結果與實際實驗，可知Von Mises應力與白斑生成與否有高度關聯性，通過對成型參數優化的模流分析，可大幅降低產品形成白斑風險
	Moldex3D Studio支援平坦度量測功能 (2020.07.29) 在實際產品製造過程中，若能在產品設計前期先量測評估平坦度是否符合標準，可以提高產品製造良率、降低模具修改成本。