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Google的诞生与成功秘诀

Google 凭借的是效能而非花俏的服务,以高水平的搜寻质量,及在用户间获得的高可信赖度,成为网络业的模范。而搜寻方法就是Google成功的秘密所在。
imec创新ADC架构 锁定高速有线传输应用 (2024.02.22)
於本周举行的2024年国际固态电路会议(ISSCC)上,比利时微电子研究中心(imec)发表了一套类比数位转换器(ADC)的突破性架构,为全新一代的类比数位转换器(ADC)奠定基础
独创低功耗UWB接收器 具10倍抗扰力排除Wi-Fi与後5G讯号 (2024.02.21)
於本周举行的国际固态电路会议(ISSCC)上,比利时微电子研究中心(imec)发表了一款独特的低功耗超宽频(UWB)接收器;与现有的先进UWB装置相较,该晶片的抗扰性能提升10倍,有效抵挡来自Wi-Fi和5G(以後的)讯号
imec推出小型装置的无线充电技术 功耗创新低 (2024.02.20)
於本周举行的2024年国际固态电路会议(ISSCC)上,比利时微电子研究中心(imec)推出一款创新的超音波充电技术概念验证,锁定植入式装置应用。此次提出的解决方案尺寸仅有 8 mm x 5.3 mm,不仅支援高达53度角的波束控制功能,功耗也减少了69%,在目前的先进系统之中,跻身尺寸最小、功耗最低的无线超音波充电装置
imec总裁:2023是AI关键年 快速影响每个人 (2024.02.19)
历史每天都在开展,唯有时间流逝才会显现出事件带来的真正影响,而2023年是不凡的一年。随着人工智慧窜起,如今变得人人唾手可得,2023年无疑是新纪元的开端。
imec与三井化学缔结策略夥伴关系 推动EUV奈米碳管光罩护膜商用 (2023.12.22)
比利时微电子研究中心(imec)与三井化学共同宣布,为了推动针对极紫外光(EUV)微影应用的奈米碳管(CNT)光刻薄膜技术商业化,双方正式建立策略夥伴关系。此次合作
锁定5G先进基地台及行动装置应用 imec展示高效能矽基氮化?? (2023.12.14)
於本周举行的2023年IEEE国际电子会议(IEDM)上,比利时微电子研究中心(imec)发表了在8寸矽晶圆上制造的氮化铝(AlN)/氮化??(GaN)金属绝缘体半导体(MIS)高电子迁移率电晶体(HEMT),该元件能在28GHz的操作频率下展现高输出功率及能源效率
突破相机性能极限 imec展示全新次微米像素彩色成像技术 (2023.12.12)
於本周举行的2023年IEEE国际电子会议(IEDM)上,比利时微电子研究中心(imec)展示了一套能在次微米(sib-micron)等级的解析度下忠实分割色彩的全新技术,采用的是在12寸晶圆上制造的传统後段制程
量化IC制造业的环境影响 imec推出公开使用版虚拟晶圆厂 (2023.11.15)
比利时微电子研究中心(imec),宣布推出免费使用版虚拟晶圆厂imec.netzero模拟平台。该工具提供了一种量化晶片制造业环境影响的视角,提供学界、政策制定者及设计人员具有价值的洞见
革命性医疗成像 imec用非侵入超音波监测心脏 (2023.09.23)
比利时微电子研究中心(imec)发表一种革命性医疗成像及监测,他们与新创公司Pulsify Medical研发出新一代超音波技术,推动心脏监测技术朝向非侵入式且无需医师操作的方向发展
打造先进薄膜影像感测器 imec整合固定式光电二极体 (2023.08.27)
比利时微电子研究中心(imec)宣布,在薄膜影像感测器上成功整合了固定式光电二极体(pinned photodiode ;PPD)结构。透过新增一个固定式光闸极(pinned photogate)和一个传输闸极,最终能让用於波长1微米以下的薄膜感测器发挥更优异的吸收特性,为可见光波段以外的感测技术释放具备高成本效益的发展潜能
晶背供电技术的DTCO设计方案 (2023.08.11)
比利时微电子研究中心(imec)于本文携手矽智财公司Arm,介绍一种展示特定晶背供电网路设计的设计技术协同优化(DTCO)方案,其中采用了奈米矽穿孔及埋入式电源轨来进行晶背布线
可程式光子晶片的未来动态 (2023.07.25)
光子晶片如果能根据不同的应用,透过重新设计程式来控制电路,那麽就能降低开发成本,缩短上市时间,还能强化永续性。
imec联手AT&S开发先进封装 奠定140GHz雷达与6G通讯技术基础 (2023.07.02)
比利时微电子研究中心(imec)携手奥特斯(AT&S)於日前举行的国际微波会议(International Microwave Symposium)上,成功将D频段晶片和波导整合到低成本且可量产的印刷电路板(PCB)上,为实现创新的系统整合方案迈出重要的一步
imec与ASML签署备忘录 推动欧洲半导体的研究与永续创新 (2023.06.30)
比利时微电子研究中心(imec)及艾司摩尔(ASML)宣布,双方计画在开发最先进高数值孔径(high-NA)极紫外光(EUV)微影试验制程的下一阶段强化彼此之间的合作。 该试验制程的目标是协助采用半导体技术的所有产业了解先进半导体技术所能带来的契机,并提供一套能在未来支援其创新的原型设计平台
系统技术协同优化 突破晶片系统的微缩瓶颈 (2023.06.25)
本文内容说明系统技术协同优化(STCO)如何辅助设计技术协同优化(DTCO)来面对这些设计需求。
imec最新成果:合金薄膜电阻首度超越铜和?? (2023.05.23)
於本周举行的2023年IEEE国际内连技术会议(IITC)上,比利时微电子研究中心(imec)展示其实验成果,首次证实导体薄膜的电阻在12寸矽晶圆上可超越目前业界使用的金属导线材料铜(Cu)和??(Ru)
格罗方德、三星与台积电 加入imec永续半导体计画 (2023.05.16)
比利时微电子研究中心(imec)今日宣布,格罗方德(GlobalFoundries)、三星(Samsung)与台积电加入其永续半导体技术与系统(SSTS)研究计画。SSTS计画於2021年启动,集结了整个半导体业的关键要角,包含系统商、(设备)供应商及最新加入的三家国际晶圆大厂,以协助晶片价值链降低对生态的影响
imec观点:微影图形化技术的创新与挑战 (2023.05.15)
此篇访谈中,比利时微电子研究中心(imec)先进图形化制程与材料研究计画的高级研发SVP Steven Scheer以近期及长期发展的观点,聚焦图形化技术所面临的研发挑战与创新。
创新SOT-MRAM架构 提升新一代底层快取密度 (2023.04.17)
要将自旋轨道力矩磁阻式随机存取记忆体(SOT-MRAM)用来作为底层快取(LLC),目前面临了三项挑战;imec在2022年IEEE国际电子会议(IEDM)上提出一套创新的SOT-MRAM架构,能够一次解决这些挑战
imec开发虚拟晶圆厂 巩固微影蚀刻制程的减碳策略 (2023.03.19)
由国际光学工程学会(SPIE)举办的2023年先进微影成形技术会议(2023 Advanced Lithography and Patterning Conference)上,比利时微电子研究中心(imec)展示了一套先进IC图形化制程的环境影响量化评估方案

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8 Imec展示高数值孔径EUV生态系统进展 率先导入ASML曝光机
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10 突破相机性能极限 imec展示全新次微米像素彩色成像技术

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