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联电、DNP将为0.10微米光罩制定适当规格 (2000.12.19)
联电今宣布与大日本印刷株式会社(DNP)签订一项为期数年的协议,联电将获得DNP保障提供先进的光罩服务。此外,双方将共同为0.10微米光罩制定适当之规格。 联电表示,根据该协议,DNP将集中提供0.15/0.13微米制程世代的高阶光罩予联电,并强调采用先进且高质量的光学微距校正 (Optical Proximity Correction, OPC)相位移光罩(Phased Shift Mask, PSM)


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