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Low-K制程开启芯片生产新纪元 (2004.02.16)
据中央社报导，台积电于今年宣布迈入「低介电常数」（Low-K）制程新纪元，使得许多新的先进产品得以运用低介电常数薄膜当作隔离材料，藉由低介电材质提高速率，并且以更低的线路干扰减少耗电，增进效能
台湾应用材料使用Accenture"员工在线信息服务"成功上线 (2001.02.07)
Accenture (原安盛咨询) 今天宣布，该公司为台湾应用材料公司所建置之企业入口网站第一阶段的员工入口网站 (Employee Portal) [即员工在线信息服务 (Employee On-Line)] 已于日前成功上线
台湾应用材料林口办公室开幕 (2000.05.25)
台湾应用材料公司为协助南亚二厂进行厂能的扩充，特别于林口南亚二厂附近成立一新的服务据点，并成立一支技术服务团队，全力支援南亚二厂进行量产。 南亚二厂位于林口华亚工业园区，今年二月成立试产线，并计划于今年下半年进入量产


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