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| 開始時間﹕ |
六月六日(二) 18:30 |
結束時間﹕ |
六月十五日(四) 21:30 |
| 主办单位﹕ |
經濟部工業局 |
| 活動地點﹕ |
交通大学(光复校区)工程四馆 |
| 联 络 人 ﹕ |
陳小姐 |
联络电话﹕ |
03-5731744~5 |
| 報名網頁﹕ |
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| 相关网址﹕ |
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以光学微影技术为主,含光学基础,微影系统介绍,光阻化学原理与制程运用,以及深次微米微影制程中广泛运用之分辨率增强技术,如偏轴照明,相转移光罩,光学邻近修正技术等。 课程大纲： 1. Optics Fundamentals for Microlithography 2. Microlithography Exposure systems 3. Chemistry of Resist and Process Application 4. Resolution Enhancement Technology 5. Next Generation Lithography 上课时间:每周二及每周四 18：30～21：30
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