KLA-Tencor於近日正式發表K-T Analyzer—該公司全新的顯影可修正平台，能夠提供全自動化的覆蓋與關鍵尺寸(CD)度量資料的工具分析，以加速並改善進階顯影單元的限定與控制。K-T Analyzer可將原始的顯影效能資料即時轉換成關鍵業務的資訊，讓晶圓廠能夠制定更快速與更準確的決策，以達成高良率與可靠的圖樣工藝。

K-T Analyzer可與KLA-Tencor的Archer覆蓋、eCD CD SEM和SpectraCD光學CD度量等平台(65奈米和以下的IC生產)進行無縫式整合，同時已經在數家居領導地位的邏輯與記憶體製造商的生產中實行，以進行對焦/劑量分析應用。

縮減的設計規則驅使了更緊迫的CD與覆蓋控制需求，以便讓晶圓廠能夠保持在緊縮的顯影製程視窗的中心。然而，由於與今日先進之製造程序有關的控制成本不斷增加，設計複雜度增加但是製程的容錯度卻降低，使得晶圓廠需要比CD和覆蓋測量更多的條件才能夠達成高良率的圖樣製程。他們現在需要一個快速而有效的方法可以將該資訊轉換成資訊，以協助他們判定是否發生良率問題，以及在發生問題時，協助他們決定調整製程時需要採取的適當措施。

K-T Analyzer利用KLA-Tencor的度量系統提供即時的覆蓋與CD分析—讓工程師對於其顯影工藝的品質能夠立即提出回饋意見。如此他們便能夠儘快地修正錯誤，減少不必要的晶圓重製，並且有效地使用顯影設備，進而確保可在顯影單元中維持最佳的生產能力與緊密的製程控制。