KLA-Tencor于近日正式发表K-T Analyzer—该公司全新的显影可修正平台，能够提供全自动化的覆盖与关键尺寸(CD)度量数据的工具分析，以加速并改善进阶显影单元的限定与控制。K-T Analyzer可将原始的显影效能数据实时转换成关键业务的信息，让晶圆厂能够制定更快速与更准确的决策，以达成高良率与可靠的图样工艺。

K-T Analyzer可与KLA-Tencor的Archer覆盖、eCD CD SEM和SpectraCD光学CD度量等平台(65奈米和以下的IC生产)进行无缝式整合，同时已经在数家居领导地位的逻辑与内存制造商的生产中实行，以进行对焦/剂量分析应用。

缩减的设计规则驱使了更紧迫的CD与覆盖控制需求，以便让晶圆厂能够保持在紧缩的显影制程窗口的中心。然而，由于与今日先进之制造程序有关的控制成本不断增加，设计复杂度增加但是制程的容错度却降低，使得晶圆厂需要比CD和覆盖测量更多的条件才能够达成高良率的图样制程。他们现在需要一个快速而有效的方法可以将该信息转换成信息，以协助他们判定是否发生良率问题，以及在发生问题时，协助他们决定调整制程时需要采取的适当措施。

K-T Analyzer利用KLA-Tencor的度量系统提供实时的覆盖与CD分析—让工程师对于其显影工艺的质量能够立即提出回馈意见。如此他们便能够尽快地修正错误，减少不必要的晶圆重制，并且有效地使用显影设备，进而确保可在显影单元中维持最佳的生产能力与紧密的制程控制。