晶圆清洗设备供应商盛美半导体设备今天发布了立式炉设备（Ultra Furnace）首台，此为多种乾法制程应用开发的系统。该立式炉设备优化後可实现高性能的低压化学气相沉积（LPCVD）应用，同时该设备平台还可延伸至氧化和退火，以及原子层沉积(ALD)等应用。此次的立式炉设备也展现了盛美中国和韩国研发团队为时两年的合作成果。

盛美首台立式炉产品首供LPCVD市场，未来将推广至氧化，退火和ALD等目标市场展示了中韩研发团队合作新成果

盛美半导体设备董事长王晖表示：「先进的技术节点带来了持续的挑战，这就要求设备供应商进行创新。而这种市场需求给盛美提供了重要的机会。」

他强调：「不断创新是盛美的DNA。我们发现了可以受益於我们技术的市场需求，所以就将我们的技术延伸至该新的细分市场，在盛美已建立的湿法制程产品系列上增加了Ultra Furnace立式炉产品系列，这样既可以为客户的先进产品提供整体解决方案，同时又扩大了我们的市场机遇。」

盛美半导体韩国公司执行长金泳律则表示：「Ultra Furnace立式炉产品是由我们中国和韩国的专业团队合作开发差异化技术的成果。」

他进一步表示：「盛美韩国团队的成立让我们顶尖的上海团队如虎添翼，加速了我们进军市场的速度，也可给本土的客户提供优秀的技术支援。」

沉积制程是指，在高温下化学气体在晶圆表面上反应形成氧化矽或者氮化矽膜层。Ultra Furnace立式炉系统可用於批量处理多至100片12英寸（300毫米）晶圆。创新的系统设计使用了新开发的硬体，提高了耐用性，同时搭载了盛美成熟的软体技术、专有的控制系统和演算法。这些特点保证了设备能稳定地控制制程压力、气体流量和温度。

目前盛美Ultra Furnace立式炉主要面向LPCVD制程市场，後续只需对其元件和布局进行一些局部变更，就可满足其它目标应用需求。85%左右的硬体设定可保持不变，所以可有效地实现面向新应用的变动。

盛美半导体Ultra Furnace立式炉目标市场以中国大陆为起点，逐步向韩国和台湾市场推进。盛美已於2020年初，向中国一家重要的逻辑客户的制造工厂交付了第一台Ultra Furnace。该设备用於LPCVD，目前已经在用户端安装并进行验证。