明导国际(Mentor Graphics)日前宣布其Calibre设计与制造平台的多款最佳工具已通过认证，现能为IBM/特许半导体/三星的65奈米制程Common Platform技术提供强大可靠的可制造设计(DFM)方法支持。这些已通过生产验证的工具让有意采用跨晶圆代工厂商制程的设计人员在设计流程初期就能更快找出和解决潜在的良率影响因素，进而提高先进奈米技术的生产成功机率。下一代IC设计流程必须为这类全新的可制造设计工具提供弹性的晶圆代工厂商支持，这是它们成功的必要条件。

Calibre LFD在初步设计时间就能解决非常迫切的微影制程变异性管理问题，成为第一套具备这项能力并通过生产验证的EDA工具。Calibre LFD允许设计人员做出各种设计取舍，以便创造更可靠和更不易受到微影制程适用范围(lithographic process window)影响的设计。

「今天，我们已在可制造设计的新工具和新技术应用上达到一个重要里程碑，我们很高兴支持Common Platform模型已成为我们客户的选项之一。」Mentor Graphics设计与制造部门副总裁暨总经理Joe Sawicki表示，「良率损失机制的分析和预防管理基础设施已逐渐成形，并且证明它们自己极有价值。」