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16nm/14nm FinFET：開闢電子技術新疆界
 

【CTIMES/SmartAuto 編輯部 報導】   2013年03月27日 星期三
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FinFET技術是電子業界的新一代先進技術，是一種新型的多重閘極3D電晶體，提供更顯著的功耗和效能優勢，遠勝過傳統平面型電晶體。Intel已經在22nm上使用了稱為「三閘極(tri-gate)」的FinFET技術，同時許多晶圓廠也正在準備16奈米或14奈米的FinFET製程。雖然這項技術具有巨大的優勢，但也帶來了一些新的設計挑戰，需要整個半導體設計生態系統的廣泛研發和深層協作，才能夠成功。
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關鍵字： FinFET  16奈米  14奈米  益華電腦(Cadence) 
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