帳號:
密碼:
最新動態
產業快訊
CTIMES/SmartAuto / 新聞 /
英特爾、三星、台積電合作450mm晶圓製造
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2008年05月06日 星期二

瀏覽人次:【2299】

英特爾、三星與台積電共同宣佈,為了促進半導體產業的持續成長,並維持未來晶片製造及應用的合理成本結構,三家公司達成共識:西元2012年將是半導體產業進入450mm(18吋)晶圓製造的適當時機。這三家公司也將與其他半導體業者合作,確保450mm晶圓試產線所需的元件、基礎設施與能力屆時將已經準備就緒並且測試完成。

鑑諸積體電路製造發展史,晶圓尺寸愈大,愈有助於降低積體電路的製造成本。以個人電腦晶片為例,一片450mm晶圓所產出的晶粒數是300mm晶圓所能產出的二倍以上。較大尺寸的晶圓不僅可降低每一顆晶片產品的生產成本,透過能源、晶圓與其他資源的更有效利用,更能全面減少資源的使用。例如,從300mm晶圓過渡到450mm晶圓,預期將有助降低空氣污染、減少全球溫室氣體排放與水資源的消耗。

英特爾、三星電子與台積電三家公司相信,藉由一致的產業標準、合理調整300mm設施與自動化流程及建立工作進度的共識,將有助提升半導體業的投資報酬率,大幅降低450mm的研發成本,並有助減少風險與轉換成本。

關鍵字: 積體電路  半導體  晶片  晶圓  Intel(英代爾, 英特爾三星(Samsung台積電(TSMC製程材料類 
相關新聞
AI推升全球半導體製造業Q3罕見成長 動能可望延續至年底
2025國際固態電路研討會展科研實力 台灣20篇論文入選再創新高
應材於新加坡舉行節能運算高峰會 推廣先進封裝創新合作模式
三星發表ALoP相機技術 讓夜拍更清晰、手機更輕薄
HLF高峰會首次移師新竹工研院 吸引全球10大創新生態系代表齊聚台灣
comments powered by Disqus
相關討論
  相關文章
» SiC MOSFET:意法半導體克服產業挑戰的顛覆性技術
» 揮別製程物理極限 半導體異質整合的創新與機遇
» AI運算方興未艾 3D DRAM技術成性能瓶頸
» 跨過半導體極限高牆 奈米片推動摩爾定律發展
» STM32MP25系列MPU加速邊緣AI應用發展 開啟嵌入式智慧新時代


刊登廣告 新聞信箱 讀者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 遠播資訊股份有限公司版權所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BT0VV6FCSTACUK1
地址:台北數位產業園區(digiBlock Taipei) 103台北市大同區承德路三段287-2號A棟204室
電話 (02)2585-5526 #0 轉接至總機 /  E-Mail: [email protected]