SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN)與臺灣國立清華大學(NTHU)在啟動12英寸矽晶圓巨量電子束直寫微影(MEB12)計畫的慶祝儀式上簽署了一份合作備忘錄(MoU)。

NTHU將與國際半導體設備和軟體供應商聯手成立第一家巨量電子束直寫(MEBDW)創新性半導體產學聯盟，旨在開發頂尖的無光罩微影技術。MEBDW微影技術可實現「晶片內建安全」(on-chip security)，使臺灣成為世界上第一個實現具有唯一ID的安全晶片的研發和試生產的地區，能夠為網際網路、人工智慧、電子支付以及汽車晶片提供資訊安全保障。

MEB12計畫參與者包括全球唯一一家商用 MEBDW微影設備製造商——來自荷蘭的Mapper Lithography B.V.和美國設計軟體供應商新思科技公司(Synopsys, Inc.)，SCREEN將利用DUO微影膠/顯影系統(develop track)及SU-3200單晶片洗淨系統為MEB12計畫提供支援。

作為MEB12計畫發起人之一，NTHU電機工程學系教授兼奈微與材料科技中心主任邱博文教授指出：「這項計畫是利用臺灣在半導體製造業中極強滲透能力的成功典範，我們與國際半導體巨擘成立聯盟，在學校建立最先進的商用12英寸MEBDW微影製程生產線，使臺灣國立清華大學成為全球第一所擁有這項獨特研發能力的大學。」

SCREEN Semiconductor Solutions總裁Tadahiro Suhara表示：「我們很高興能夠為臺灣國立清華大學提供支援，協助其引領MEB12聯盟的成立和發展。這進一步彰顯了我們的SCREEN設備技術和資源帶給創新性物聯網技術應用的價值。」

MEB12聯盟允許臺灣和亞洲鄰國半導體IC設計和製造公司以會員身分加入，攜手開發創新性晶片產品。據邱教授表示：「除研發安全晶片之外，該聯盟還可作為無光罩IC設計認證平臺，透過顯著降低光罩不斷攀升的成本，協助新成立的IC設計公司捱過初始階段的艱難期，同時還可為利基型應用提供具備高解析度和高圖形靈活性的低成本晶圓代工服務。」