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光罩聯盟推動將OpenAccess導入製造領域
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2004年04月19日 星期一

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據網站EE Times報導,設計到光罩聯盟(Design-to-Mask Coalition;DTMC)在近期舉行的OpenAccess會議上,該聯盟的目標是致力將OpenAccess資料庫導入製造領域,並呼籲OpenAccess向「框架」格式演變,為EDA開發商和用戶增加新功能。

該報導指出,OpenAccess會主辦單位為矽整合創新組織(Silicon Integration Initiative;Si2),該機構負責管理用戶支援的OpenAccess聯盟;該聯盟將採納一種能提供多個供應商互通作業性的API介面和參考資料庫實現,在所謂能連接設計和晶片製造的通用資料模型(UDM)中的潛在作用,曾經被談論一時。

OpenAccess的支持者表示,通用設計到製造資料模型能節省數十億美元的光罩製造費用,並將製造和製程資訊反饋給設計師。2003年9月,Si2提出成立設計到光罩聯盟,包含用戶、EDA供應商和光罩製造商。

而目前此一提議已成為事實,Si2總裁兼CEO Steve Schulz表示,DTMC將朝開放標準和技術的方向努力,成為一個社區資源。它將解決可製造性設計、資料準備、光罩製造和晶圓加工等問題。

關鍵字: DTMC 
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