据网站EE Times报导，设计到光罩联盟（Design-to-Mask Coalition；DTMC）在近期举行的OpenAccess会议上，该联盟的目标是致力将OpenAccess数据库导入制造领域，并呼吁OpenAccess向「框架」格式演变，为EDA开发商和用户增加新功能。

该报导指出，OpenAccess会主办单位为硅整合创新组织（Silicon Integration Initiative；Si2），该机构负责管理用户支持的OpenAccess联盟；该联盟将采纳一种能提供多个供货商互通作业性的API接口和参考数据库实现，在所谓能连接设计和芯片制造的通用数据模型（UDM）中的潜在作用，曾经被谈论一时。

OpenAccess的支持者表示，通用设计到制造数据模型能节省数十亿美元的光罩制造费用，并将制造和制程信息反馈给设计师。2003年9月，Si2提出成立设计到光罩联盟，包含用户、EDA供货商和光罩制造商。

而目前此一提议已成为事实，Si2总裁兼CEO Steve Schulz表示，DTMC将朝开放标准和技术的方向努力，成为一个小区资源。它将解决可制造性设计、数据准备、光罩制造和晶圆加工等问题。