國際半導體設備大廠應用材料宣布該公司Applied Producer化學氣相沉積（CVD）系統已出貨超過750套，這些客戶並採用其黑鑽石低介電常數（Black Diamond low dielectric）技術來進行沉積作業。其中在750套已安裝好的Producer系統中，有超過200套是裝設於12吋晶圓廠內。

應材副總裁暨介電系統與模組產品事業群總經理Farhad Moghadam表示，結合多世代製程技術的Producer系統之單晶圓設計，能提供晶片製造商在製程控制與彈性優勢上，遠超出批次系統。而這些優勢對於新的晶片世代也變得益顯重要，因為超薄層需有良好的硬體技術，在專一且嚴格控制的環境中，才能執行多道複雜的沉積步驟。

應材指出，Producer平台可以安裝6個單晶圓製程工作台，以達到高彈性度及高生產力。而系統中最先進的CVD應用──黑鑽石薄膜（Black Diamond），已成為業界低介電常數薄膜的首選，以提升先進晶片產品的速度及降低耗能。其他的Producer系統的應用則包含了產業內最廣泛的二氧化矽及氮化矽薄膜，包括臭氧／正矽酸乙酯（TEOS）薄膜，這是用在邏輯和記憶晶片所需的覆蓋及填充沉積物。

在閘極結構上，Producer系統能藉由先進圖樣薄膜（Advanced Patterning Film）以及應用於193奈米曝光的抗反射介電覆膜（DARC），讓晶片製造商能提升微影技術的控制能力，用在90奈米及以下的產品需要的薄閘極電介質層。