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為市場提供精確的高劑量離子植入設備
專訪Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff

【作者: 王岫晨】   2006年10月30日 星期一

瀏覽人次:【2776】

亞舍立科技(Axcelis Technologies)供應先進半導體製程設備,包括離子植入(Ion Implant)、快速熱處理(RTP)、清洗(Cleaning)與固化(Curing)等設備。其業務涵蓋全球前20大的晶片製造商,並與日本住友重工SHI合資(50%-50%)設立日本SEN Corporation以服務日本市場。目前並積極佈局全球以及亞太市場。


《圖一 Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff》
《圖一 Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff》

Axcelis資深行銷副總裁Mark Namaroff表示,Axcelis所推出的Optima HD離子植入設備,是專為傳統高劑量離子植入及65nm以下元件製造應用擴展而開發的離子植入設備。Optima HD離子植入設備的特點是離子能量低,高劑量系統可為市場提供從200eV到80keV的最寬的能量範圍,有助於客戶覆蓋所有傳統高劑量植入設備,同時可為重要的中劑量應用提供最多的功能性和投資效率。Optima HD也支援形成雙重多晶(dual poly)門和矽絕緣體應用分子和氫的植入,可以提高設備的速度和性能。


Axcelis的表示,Optima HD是市場上最精確、通用和具備高劑量植入生產能力的設備。與Optima平台一樣,當市場進入65nm以下製程技術時,Axcelis便設計了Optima HD,以滿足電晶體製作過程中所發生的基本變化。Optima HD的問世證明了Axcelis的策略正確,也就是開發可擴展的植入技術,為大多數客戶提供滿足當前需求的最大靈活性,同時應對新一代電晶體設計和元件結構方面新的挑戰。
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