账号:
密码:
CTIMES / Ev Group
科技
典故
第一颗晶体管(Transistor)的由来

第二次世界大战末期,贝尔实验室开始一项研究计划,目标是研发出一种体积更小、功能更强大、更快速且可靠的装置来取代真空管。1947年12月23日,由贝尔实验室研发的晶体管取代了真空管,优点是体积更小、更可靠、且成本低廉,不仅孕育了今日遍及全球的电子半导体产业,同时也促成电讯计算机业、医学、太空探测等领域产生戏剧性的改变。
EV GROUP将革命性薄膜转移技术投入量产 (2023.12.12)
EV Group(EVG)宣布推出EVG 850 NanoCleave薄膜剥离系统,这是首款采用EVG革命性NanoCleave技术的产品平台。EVG850 NanoCleave系统使用红外线(IR)雷射搭配特殊的无机物材质,在透过实际验证且可供量产(HVM)的平台上,以奈米精度让已完成键合、沉积或增长的薄膜从矽载具基板释放
EVG推出NanoCleave薄膜释放技术 使先进封装促成3D堆叠 (2022.09.13)
EV Group(EVG)今日宣布推出NanoCleave技术,这是一种供矽晶圆使用的革命性薄膜释放技术,此技术使得先进逻辑、记忆体与功率元件的制作及半导体先进封装的前段处理制程,能使用超薄的薄膜堆叠
EVG携手工研院扩大先进异质整合制程开发 迈向供应链在地化 (2022.08.31)
微机电系统(MEMS)、奈米科技与半导体市场的晶圆接合暨微影技术设备之领导厂商EV Group(EVG),今日宣布携手工业技术研究院(以下简称工研院)扩大先进异质整合制程的开发
EV GROUP成功展示100%转移良率 取得D2W接合大突破 (2022.07.27)
微机电系统(MEMS)、奈米科技与半导体市场的晶圆接合暨微影技术设备领导厂商EV Group(EVG),今日宣布藉由使用EVG的GEMINI FB自动化混合接合系统,已可一次性转移多颗不同大小来自3D系统单晶片(SoC)的晶粒,并成功展示100%无缺陷的接合良率,取得晶粒到晶圆(D2W)熔融与混合接合的重大突破
EV GROUP推出全新多功能微米及奈米压印解决方案 (2022.01.19)
晶圆接合暨微影技术设备供应商EV Group(EVG),今日推出EVG7300自动化SmartNIL奈米压印与晶圆级光学系统。EVG7300是EVG最先进的解决方案,可在单一平台上结合如奈米压印微影技术(NIL)、透镜压铸与透镜堆叠(UV接合)等多重基於UV架构的制程
EV Group步进重复奈米压印微影系统突破生产微缩化 (2021.06.10)
相较于昔日步进重复奈米压印微影(NIL)的进一步开发与生产微缩化的需求,常被受限于较大面积上精准母模的可用性。晶圆接合暨微影技术设备商EV Group(EVG)推出次世代步进重复NIL系统EVG770 NT
EV GROUP全新五号无尘室完工 实现产能倍增 (2020.07.22)
晶圆接合暨微影技术设备商EV Group(EVG)今天宣布已在奥地利的企业总部,完成兴建全新五号无尘室大楼。全新的大楼从头到尾采用最新无尘室设计与建筑技术,并让EVG总部的无尘室产能几??增加一倍,未来将用於开发产品与制程的展示设备、开发原型机和试量产的服务
EV GROUP与INKRON合作开发高折射率材料和奈米压印微影制程技术 (2020.02.17)
微机电系统(MEMS)、奈米科技与半导体市场的晶圆接合暨微影技术设备之领导厂商EV Group(EVG)今(17)天宣布和致力於高低折射率涂层材料的制造商Inkron的合作夥伴关系

  十大热门新闻
1 EV GROUP将革命性薄膜转移技术投入量产

AD

刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3
地址:台北市中山北路三段29号11楼 / 电话 (02)2585-5526 / E-Mail: [email protected]