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CTIMES / 銅阻障層研磨液
科技
典故		 因特网联合公会 - W3C

在1994年10月，网络的创造者Tim Berner-Lee，在麻省理工学院的计算机科学实验室里，成立了因特网联合公会，也就是现在的World Wide Web Consortium。
罗门哈斯 为晶圆制造厂商提供浆料新选择 (2005.07.21)
罗门哈斯电子材料公司CMP技术事业部推出一种新型铜阻障层研磨液，专门设计来协助用户处理90nm和65nm技术节点下低介电质(Low-K)整合方案中的化学机械平坦化问题。新型LK393c4铜阻障层研磨液是与晶圆制造商密切配合下开发而成，与其它现有研磨液配方相比，其选择比和研磨速率可帮助用户将芯片产量和所有权成本提升25%到30%

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