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65到45：半导体制程微细化技术再突破 (2006.11.27)
当半导体微细化制程从65奈米迈向45奈米、甚至晶片结构体尺寸将朝向32或是22奈米之际，我们将会面临什么未知的物理性质变化？为了追寻更微小体积、切割更多晶片的商业成本效益 |
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193奈米机台到位 台积电浸润式微影迈新局 (2004.11.08)
据业界消息，台积电积极推动的半导体新一代技术浸润式（immersion）微影技术，又向前迈进一步，该公司向设备大厂ASML采购的193奈米雏形机已经运抵新竹，并正式移入台积电12厂，台积电研发部门将利用该设备进行相关制程研发，并预计于65奈米世代量产此技术 |
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全球奈米电子技术现况与趋势探讨 (2004.08.04)
为成为下一世代的市场赢家，奈米级先进制程已经成为全球各大半导体产商积极投入之研究领域，而随着制程不断朝向65奈米、45奈米及32奈米以下尺寸推进，所面临的技术挑战也更加艰难 |
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台积电预计7月完成193奈米浸润式显影装机 (2004.05.09)
据Digitimes报导，台积电预计2004年7月完成全球首台193奈米浸润式显影（Immersion Lithography）机台装机，将以65奈米制程切入，再向下延伸到45奈米、32奈米制程。台积电资深研发副总蒋尚义表示，该公司浸润式显影技术是在曝光源与晶圆加入水作为波长缩短介质，可微缩到132奈米，远低于157奈米微影机台波长 |
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台积电、联电积极研发奈米级晶圆制程技术 (2003.12.06)
联电、台积电双雄加速晶圆高阶制程研发，联电宣布率先导入无络膜相位移光罩（Cr-less PSM）技术，成功量产90奈米制程，同时采购193nm光学扫描机，台积电也向设备大厂ASML采购193奈米浸润式微影设备，发展65奈米制程 |
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台积电宣布取消157奈米微影设备订单 (2003.10.16)
晶圆代工大厂台积电宣布取消157奈米微影订单，转向为湿浸式科技（immersion technology）背书，此一消息对半导体设备大厂ASML来说不啻是一大打击，也是继英特尔（Intel）放弃157奈米微影技术设备蓝图，计划以193奈米扫瞄机微影技术，进90奈米以下先进制程后，157奈米微影技术的另一挫败 |
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台积电估计90奈米制程成长速度不及0.13微米 (2003.10.08)
台积电资深研发副总蒋尚义日前表示，目前台积电已有40多项90奈米产品导入试产，预计将在1年后导入量产，但因90奈米制程市场需求增加速度可能不及0.13微米制程，估计三年以后客户才会大量使用此先进制程 |
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TSMC announced the breakthrough 65nm exposure of technical bottlenecks (2003.09.13)
TSMC announced in the third quarter of 2003 to import 90-nanometer process, is expected in early 2004 may have a small amount of product shipments; addition Genda Hu, TSMC is also vice president of marketing, said the company has been associated for 65nm lithography (Lithography) machine bottleneck in the development of a breakthrough in light of the road |
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半导体设备市场复苏中量测系统表现亮眼 (2003.06.09)
据研究机构Information Network最新报告指出，半导体设备市场历经两年的低潮期已经开始逐渐复苏，因晶片业者纷纷在2003年增加资本支出，其中量测检测（Metrology and Inspection；M&I）系统设备的营收，较去年成长11.5％，预计2003年可达到近28亿美元的市场规模 |
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Intel弃守157奈米微影技术对大陆业者影响有限 (2003.06.02)
据Digitimes报导，英特尔决定放弃采用157奈米微影技术，藉由193奈米微影机辅以相位移光罩（phase shifting mask；PSM）技术，进行90及45奈米加工技术生产措施，将使得以英特尔为首的国际晶片大厂局势产生巨大变化，大陆半导体业界对此事均表示关注，由于大陆IC设计公司普遍没有进入到奈米时代，该决定对大陆产业影响不大 |
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英特尔宣布弃守157奈米微影技术 (2003.05.30)
据外电报导，英特尔（Intel）日前宣布将放弃157奈米微影技术，继续使用193奈米微影制程；而此举为业界为逻辑晶片业者投下2个疑问：其一是业界是否会因为采取不同微影技术设备，而分成两大阵营；另外一个疑问便是，英特尔放弃157奈米微影设备的举动，将会为半导体设备业界带来什么影响 |
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微影技术再添喜讯 157奈米突破瓶颈 (2002.09.20)
全球半导体技术联盟于今年3月对外表示，157 奈米出现物性技术瓶颈，将延后半导体厂进入70奈米米制程的时程。但是近日举办的第三届157奈米微影技术国际座谈会，会中有专家指出 |
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Mentor Graphics Calibre部门与IMEC合作 (2002.06.03)
Mentor Graphics于5月28日宣布，Mentor Calibre部门已和IMEC达成一项合作协议，将共同发展次波长微影技术（subwavelength microlithography）。IMEC是欧洲最重要的独立研究中心，研究领域涵盖微电子、奈米技术、信息和通信系统的设计方法和技术 |
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黄光技术力求突破 (2001.09.01)
黄光，即是为避免产品曝光，产品在黄光下进行一连串的半导体微影制程动作，目前已有的微影技术为可见光、近紫外光、中紫外光、深紫外光、真空紫外光、极短紫外光 |
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NB大厂采用英特尔处理器Tualatin (2001.06.30)
根据报导，英特尔(Intel)位于奥勒岗州(Oregon)第二座12吋晶圆厂，将安装157奈米微影设备，导入0.07微米制程。该公司Tualatin处理器将抢攻笔记本电脑市场，并于下周推出1.6及1.8GHz Pentium 4处理器 |
