KLA-Tencor公司推出最新的疊對量測系統Archer200，搭載強化的光學系統，在32奈米設計規格節點中，協助客戶達到雙次成圖光蝕（Double-patterning lithography）所需的更高要求，大幅提升性能。

KLA-Tencor針對32奈米光蝕控制推出疊對量測系統Archer 200

KLA-Tencor疊對量測部副總裁暨總經理Ofer Greenberger表示：「32奈米設計的疊對預算已被拉到極限，尤其是採用雙次成圖技術，晶片製造商希望能同時提升疊對系統的精準度與速度。在廣為人知的光學成像技術上，Archer200系統進一步提升了效能優勢，可滿足32奈米光蝕控制各層要求。有許多強化的功能，已經採用Archer的廣大用戶可以直接進行升級，將投資報酬極大化。透過與主要光蝕供應商的緊密合作，我們提升了高階疊對的控制技術，協助晶片製造商在執行雙次成圖時，達到更進階的掃描曝光機校正與監控。」

相較於上一代的Archer系統，這些研發成果讓機台的一致性提升超過50%，產能也增加了25%。其中，機台間的一致性是疊對量測中一項關鍵的衡量標準，因為不同的系統必須達到幾乎完全相同的層對準。這個強化的光學系統還搭載了重新設計的光路，能夠通過更多的光，因而測量更快，產能也隨之提高。新的相機管理演算法，能夠加速系統運作、降低雜訊，進一步提升產能和精準度。