明導國際(Mentor Graphics)日前宣佈其Calibre設計與製造平台的多款最佳工具已通過認證，現能為IBM/特許半導體/三星的65奈米製程Common Platform技術提供強大可靠的可製造設計(DFM)方法支援。這些已通過生產驗證的工具讓有意採用跨晶圓代工廠商製程的設計人員在設計流程初期就能更快找出和解決潛在的良率影響因素，進而提高先進奈米技術的生產成功機率。下一代IC設計流程必須為這類全新的可製造設計工具提供彈性的晶圓代工廠商支援，這是它們成功的必要條件。

Calibre LFD在初步設計階段就能解決非常迫切的微影製程變異性管理問題，成為第一套具備這項能力並通過生產驗證的EDA工具。Calibre LFD允許設計人員做出各種設計取捨，以便創造更可靠和更不易受到微影製程適用範圍(lithographic process window)影響的設計。

「今天，我們已在可製造設計的新工具和新技術應用上達到一個重要里程碑，我們很高興支援Common Platform模型已成為我們客戶的選項之一。」Mentor Graphics設計與製造部門副總裁暨總經理Joe Sawicki表示，「良率損失機制的分析和預防管理基礎設施已逐漸成形，並且證明它們自己極有價值。」