KLA-Tencor公司推出最新的迭对量测系统Archer200，搭载强化的光学系统，在32奈米设计规格节点中，协助客户达到双次成图光蚀（Double-patterning lithography）所需的更高要求，大幅提升性能。

KLA-Tencor针对32奈米光蚀控制推出迭对量测系统Archer 200

KLA-Tencor迭对量测部副总裁暨总经理Ofer Greenberger表示：「32奈米设计的迭对预算已被拉到极限，尤其是采用双次成图技术，芯片制造商希望能同时提升迭对系统的精准度与速度。在广为人知的光学成像技术上，Archer200系统进一步提升了效能优势，可满足32奈米光蚀控制各层要求。有许多强化的功能，已经采用Archer的广大用户可以直接进行升级，将投资报酬极大化。透过与主要光蚀供货商的紧密合作，我们提升了高阶迭对的控制技术，协助芯片制造商在执行双次成图时，达到更进阶的扫描曝光机校正与监控。」

相较于上一代的Archer系统，这些研发成果让机台的一致性提升超过50%，产能也增加了25%。其中，机台间的一致性是迭对量测中一项关键的衡量标准，因为不同的系统必须达到几乎完全相同的层对准。这个强化的光学系统还搭载了重新设计的光路，能够通过更多的光，因而测量更快，产能也随之提高。新的相机管理算法，能够加速系统运作、降低噪声，进一步提升产能和精准度。