Molex公司子公司Polymicro Technologies最近宣布提升其FDP光纤产品的性能，最新的性能改善了光纤产品在深紫外光应用(190nm - 325nm)中的负感性(solarization)。

增强型FDP光纤产品功效比较表

Polymicro Technologies全球产品经理Teodor Tichindelean表示：“光纤FDP的推出是紫外光应用的一项革新，我们很高兴能为客户带来具有更好质量的增强型FDP光纤产品，可承受紫外光的曝晒。”

Polymicro公司的silica内芯FDP光纤具有超高紫外光传输和超低紫外光曝晒特性，并有出色的耐辐射能力。FDP光纤可在低至190nm的条件下运作，并且具有出色的深紫外光耐曝晒特性，让它成为深紫外光领域应用的首选。新型FDP光纤提供了更好的耐曝晒性能，可维持更长的传输时间，同时还对光纤的损坏降到最低。

对于深紫外光领域应用，高强度紫外光辐射的影响会引起光纤及传输的退化；光纤传输损耗通常会在数小时后发生。

Tichindelean进一步指出：“与先前的产品相比，改善过的FDP光纤在初始退化之后可将光输出提高大约10%。对于Polymicro客户，这可以转化成更好的光发射和更长的产品寿命。”

Polymicro FDP光纤提供尺寸控制和紧密容差，并有一系列选项可供选择，包括客制化的内芯尺寸、涂层、缓存和配件。Molex和Polymicro设施已通过了ISO 9001、13485和14001认证。