明導國際 (Mentor Graphics) 於2月19日宣佈，聯電已開始提供能夠完整支援90奈米製程的CalibreR DRC (設計規則檢查) 規則檔案，它們可充份發揮Calibre最先進功能；自從1998年開始，Calibre就是聯電的實體驗證標準。 聯電設計支援部門負責人劉康懋表示，進入90奈米技術世代後，系統單晶片設計也變得非常複雜，因此如何對客戶提供協助，使他們順利完成從設計到製造的所有步驟就變得越來越為重要。聯電將Calibre規則檔案用於實際生產已有五年，這些規則檔案還通過許多認證，使得從tape-out到製造的轉移過程更順利，不但客戶成本得以降低，還能加快他們的新產品上市時間。Mentor Graphics設計至製造部門總經理Joseph Sawicki表示，90奈米製程不但要求實體驗證工具擁有更高效能、容量和精準度，還須提供足夠彈性，即使目標系統單晶片包含設計方法差異極大的類比與數位矽智財 (IP)，它們也必須有能力進行驗證。Calibre已準備就緒，有能力克服90奈米和下個世代技術的挑戰。聯電是Mentor Graphics的重要合作夥伴，也是Mentor可製造性設計矽晶夥伴計劃 (DFM Silicon Partners Program) 成員之一，這項合作關係確保雙方客戶都能獲得完整的 Calibre DRC、Calibre LVS (佈局與線路圖對比檢查) 以及Calibre xRC (寄生參數萃取) 規則檔案；使用者可從聯電網站下載這些規則檔案，不但大幅縮短實體驗證的設定和發展時間，製造錯誤的發生機率也會降低。