益華電腦(Cadence)與超短波晶片設計驗證解決方案供應商Numerical Technologies共同宣佈將擴展雙方原有的技術授權協定，兩家公司計劃協力開發一套支援超短波半導體製造流路的全方位積體電路設計程序。

在兩方簽署的一份為期數年、金額數百萬美元的合約中，Cadence取得授權將Numerical的專利相位偏移技術加入Cadence客戶訂製(Custom)與胞元基置(Cell-based)兩種設計形態的超短波實作解決方案之門。Cadence稍早之前已得到Numerical授權，正全力把矽晶片比對電路佈局(Silicon VS. Layout；SiVL)與極近光波校正(Optical Proximity Correction；OPC)技術導入Cadence的設計流程中，這項合約將進一步擴展雙方的合作範圍。

當半導體供應商逐步邁向0.18微米及更小製程節點後，勢須及早引用相位偏移與極近光波校正(OPC)等超短波技術，以穩定地生產幾何尺寸實際小於光學刻板設備之248-nm波長的深次微米晶片，進而延長現有製造機台的使用壽命。截至目前為止，已有VLSI Technology、聯華電子、台積電、德州儀器、朗訊微電子及摩托羅拉等知名國際大廠宣佈採用Numerical的超短波設計解決方案。

超短波技術的問市為IC設計流程帶來了重大的變革，原本與設計製造密切相關的佈局、蝕刻影相及最終的晶片都會產生連串實質上的差異，最佳的解決方式是在早期的IC設計過程中，儘可能地引進最後晶片的各種資訊，才能有效地彌補超短波刻板與製程誤差所導致的損失。Cadence與Numerical均期望新一代結合相位偏移及極近光波校正(OPC)技術的IC設計流程，能夠順利地跨接0.18微米以下製程設計與生產間無可避免的物理缺口。