安捷倫科技（Agilent）於週三（11/18）宣佈，與史丹佛大學合作進行一項研究計畫，目的是要結合掃描式探針顯微鏡（SPM）與原子層沉積（ALD）技術，來探索新型的奈米元件。這項研究計畫將有助於快速製作出奈米元件的原型並量測其特性，就10 nm以下的精細度而言是一大突破，可進行廣泛的應用。

史丹佛大學機械工程系教授兼系主任Fritz Prinz表示，新穎的奈米結構，將可直接在這個獨特的SPM-ALD工具中，製作出來並量測其特性，以快速做出各種新一代元件的原型。SPM-ALD工具可以讓我們，用存在小尺寸中的量子侷限效應來建構元件，這樣的尺寸大小無法使用傳統的微影技術來探量，這些元件只能使用具有超高空間解析度的製程工具來建構。

這項計畫的重點，是要整合ALD與具有奈米級剖面解析度的SPM，以便將掃描式探針技術，延伸應用在原型製作和元件製作上。過去，電子元件的效能一直受到傳統製程方法（如光學和電子束微影技術）的限制，無法提供比20 nm小很多的特徵解析度。然而，在10 nm或更小尺寸的元件中，因電子侷限產生的量子機械效應所導致的現象從品質上來講，與較大元件中所看到的極為不同。安捷倫認為，量子侷限效應的運用預計將成為電子元件新的設計典範。