智慧手機、5G、電競、家庭娛樂系統、車用電子、物聯網（IoT）和人工智慧（AI）等電子設備的需求不斷增長，持續推動半導體產業的發展，也進一步帶動晶圓清洗溶劑與相關設備的需求成長。默克推出用於半導體製程中去除光阻的新型綠色有機溶劑產品線。AZ 910 去光阻溶劑是無N-甲基?咯酮（ N-methylpyrrolidone , NMP）成分的新配方化學品，以更有成本效益的方式快速溶解光阻。該系列產品具備環保特性、可簡易使用於各種機型、並擁有出色的光阻溶解性能，為半導體濕製程化學品市場帶來綠色製造新契機。

默克推出兼顧高產出且環境友善的光阻去除產品，有助綠化晶片製程

默克電子科技事業體半導體材料事業全球負責人Anand Nambiar表示，默克開發出一種創新且具有成本效益的解決方案，以支援客戶實現次世代晶片製程所要求的先進清洗需求。AZ 910去光阻溶劑能夠用少於三倍的溶劑量去除光阻，幫助客戶節省成本，並減少製程材料進入全球廢棄物循環的環境足跡。永續是默克的重要發展策略，因此我們不僅致力於研發為客戶創造長期價值的產品和技術，也同時兼顧環境需求。

半導體生產設施傳統上使用負型光阻劑，經過化學反應（交聯反應），使光阻劑更適用於光刻製程。然而，這種交聯反應使光阻劑更難溶解和清除，對製程與環境都會產生影響。市場上現有的配方清洗劑不能滿足日漸攀升的需求，極需高性能、永續、且減少有機溶劑使用的化學產品。

針對微機電系統（MEMS）、汽車、電源IC（積體電路）和晶圓級封裝設備市場，AZ 910去光阻溶劑產品系列可用於取代複雜且昂貴的以NMP成分為基礎的化學品。相較於現有的NMP溶劑僅是將光阻從晶圓表面剝除，AZ 910可以溶解負型和正型的光阻劑，這種新穎的方法將去除光阻的時間縮短了一半，延長了化學藥劑和過濾器的壽命，並使製造商無需投資先進處理器所需的高端去光阻劑，顯著改善成本結構。

高純度清洗劑是晶片製造過程中的重要材料，在材料被轉移到矽晶片的過程中，每次塗層後都需要仔細的清洗，清除矽晶片上不需要的殘留物。隨著晶片的不斷微縮化，對先進、高效能且環保的清洗產品的需求越來越大。

絕佳的光阻溶解效果，對於期待降低成本和提高產能的客戶是一大利多。Anand Nambiar補充說，該產品的純然環保化學成分，簡化濕製程的處理流程，大幅的改善生產流程的環境足跡。一加侖的AZ 910去光阻劑，可以清洗超過250片有80%負型光阻劑覆蓋的8英寸晶圓，是現有其他產品無法達到的效果。

AZ 910去光阻劑適用於敏感金屬（鋁、銅、鈦、鎢、鎢-鈦化合物、錫、鎳）和其他材料，包括矽，氧化矽和常見的內連導線材料。其與批次浸潤設備（濕蝕刻設備）、批次噴塗設備和浸潤/高壓噴塗組合設備相容。常見的應用包括金屬剝離、RDL（重分佈製程）、電鍍銅、以及一般的正負型光阻。 除了不含NMP，也不含二甲基乙?胺（DMAC）、二甲基亞?（DMSO）或四甲基氫氧化銨（TMAH）等成分。AZ 910去光阻溶劑現在已經上市，其他系列產品也將會隨即推出。

默克在快速成長的半導體清洗溶劑市場扮演關鍵角色，以完整的產品組合涵蓋光刻製程的所有步驟。透過解決現有清洗溶劑市場所面臨的挑戰，為創新和研發突破性產品提供了一個獨特的機會。