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KLA全新電子束缺陷檢測系統 以深度學習提供先進IC缺陷檢測
 

【CTIMES/SmartAuto 報導】   2020年07月21日 星期二
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KLA公司今天宣布推出eSL10電子束圖案化晶圓缺陷檢測系統。該系統旨在通過檢測來發現光學或其他電子束缺陷檢測系統無法穩定偵測的缺陷，加快高性能邏輯和記憶體晶片，其中包括那些依賴於極紫外線（EUV）光刻技術的晶片的上市時間。
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關鍵字： EUV  3D NAND  KLA 
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