據網站ChinaByte報導，美國商務部技術局下屬的美國標準與技術研究院（NIST）提出了兩項提高電腦晶片性能的技術。一項是改善晶片光學設備解析度的技術，另一項是測量用於電腦晶片的矽鍺符合材料比例的標準。

光學設備技術包括製造一種用於讀取矽晶圓的所謂“液體透鏡”。在光學成分和矽之間加入一個液體層能夠把解析度從目前的100奈米提高到65奈米。把液體透鏡概念應用到電腦光學設備中能夠製作體積更小和速度更快的晶片。NIST的科學家在一篇論文中介紹說，使用高純度水作爲光學設備和矽之間的介面可以顯著減少影響解析度的光衍射程度。但該作者亦提出警告表示，液體透鏡對溫度變化很敏感，環境溫度變化對採用這項技術的光學設備設計影響很大。

NIST提高晶片速度的另一項技術進展，是提出一項可幫助量測儀器測量矽鍺薄膜中鍺含量的標準。鍺既是一種半導體也是一種混合劑，能夠使矽片表面繃緊提高電子通過的速度；鍺的應用能夠使晶片的速度提高一倍。但要準確測量混合在矽薄膜中的鍺含量是很困難的，因此NIST制定了一個標準，包括若干套包含各種不同比例的鍺和矽的薄膜。

NIST說明，該標準是政府機構與民營企業的首次合作，能夠把矽含量的不確定性，從採用目前技術測量的5％減少到1％；但目前還未正式公佈。