自英特爾（Intel）名譽主席Gordon Moore於今年7月對外表示，唯有開發EUV（超紫外光線）技衖，摩爾定律才能再次回到二年一個周期的定律，根據外電消息，歐洲、日本為達到半導體技術領先的目標，不惜巨資投資開發EUV系統；眾多歐盟成員國未來將對EUV各項領域，投資1億美元研發；日本多企業也分別成立EUV計畫小組。歐、日商預計2005年推出試用EUV設備。

在EUV技術發展早期，丹麥的光蝕刻設備供應商ASML就已處在領先的地位，為歐洲該領域的代表。據了解，日本包括Canon、Nikon、Komatsu、Ushio、Gigaphoton等公司，目前已分別成立EUV計畫小組；Canon、Nikon預計於2005年底，推出試用版的EUV設備。

EUV已成為半導體產業發展的瓶項之一，EUV技術專家們每年修訂一次內容，重新修訂了下一代超紫外線（EUV）光蝕刻技術光源的輸出功率問題。EUV LLC的總監Chuck Gwyn表示，雷射和氣體放電EUV光源，到目前為止輸出功率只達5～10瓦，仍不足以滿足高吞吐量之功率高達100瓦的光蝕刻設備。