晶圓代工大廠台積電宣布該公司順利使用浸潤式微影（immersion lithography）機台生產90奈米晶片，並且通過功能驗證。該公司並在12月初在日本舉辦的一場半導體展中以主題演講方式率先發表此項成果。

台積電微製像技術發展處資深處長林本堅表示，該公司成功使用浸潤式曝光技術產出90奈米晶片，主要的製程步驟都在公司內部完成，只有其中一層光罩的曝光、顯影，曾送至荷蘭ASML借用其浸潤式曝光掃描原型機台進行作業。

台積電的第一部65奈米製程浸潤式微光機台於11月在晶圓12 廠裝設，目前仍在評估是否於65奈米製程，即開始為客戶進行量產，至於45奈米製程，則已確定採用此一技術。