据外电报导，英特尔（Intel）日前宣布将放弃157奈米微影技术，继续使用193奈米微影制程；而此举为业界为逻辑晶片业者投下2个疑问：其一是业界是否会因为采取不同微影技术设备，而分成两大阵营；另外一个疑问便是，英特尔放弃157奈米微影设备的举动，将会为半导体设备业界带来什么影响。

据外电报导，英特尔决定弃守157奈米微影技术，继续使用193奈米扫描机，进行包括90奈米、65奈米以及45奈米等制程，并辅以使用相位移光罩（phase shifting mask; PSM）及光学近接修正（Optical Proximity Correction; OPC）技术；该公司并计划在2009年前，导入超短紫外光（Extreme Ultra Violet; EUV）微影设备，用于32奈米制程。

英特尔的决定让逻辑晶片业者产生2个疑问；其一是晶片产业界是否会因为采取不同微影技术设备而分成两大阵营；这个议题在业内被讨论以久，主要的原因便在于研发新一代制程的光罩成本水涨船高。另外一个疑问则是，向来为半导体业界资本支出龙头业者的英特尔，一旦放弃157奈米微影设备，将会为设备供应商带来什么影响。

以英特尔的优势位置，对于全球微影设备业者与晶圆厂设备供应商的影响，不可谓不大；德仪矽晶圆科技发展事业群主管Allen Bowling表示，该公司认为半导体业界仍将受惠于157奈米微影技术，由于157奈米微影技术成功的可能性要比EUV技术来得高，再加上更具有成本考量上的优势，德仪认为，若寄望EUV微影技术在2009年前成熟，未免将希望寄托在尚不可知的未来。

此外，根据Dataquest分析师Klaus-Dieter Rinnen表示，市场能否容许分裂阵营的存在也是一个问题；Rinnen指出，倘若157奈米微影扫描机已然发展成熟，相信英特尔也会改变主意，导入157奈米微影设备，用于发展45奈米以及32奈米的制程上。研究机构VLSI分析师Risto Puhakka则认为，由于193奈米微影技术具有可以向下延展到45奈米制程的用途，半导体产业无法负担同时存在2、3种不同微影技术同时存在，用于相同的45奈米制程上，因​​此，市场竞争下只能容许一个赢家。