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Aviza垂直熔炉系统获华亚12吋晶圆厂采用
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2004年09月08日 星期三

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半导体设备业者美商暐贳科技(Aviza Technology),宣布该公司垂直熔炉及单片晶圆原子层沉积(ALD)机台获得台湾DRAM 业者华亚科技(Inotera Memories)的12吋晶圆厂采用,Aviza表示将全力配合华亚12吋厂的第一阶段与第二阶段装机需求。

将以0.11微米沟槽式技术生产DRAM产品的华亚科技,计划在其12吋晶圆新厂中发展 90 奈米和 70 奈米的制程技术,而Aviza的垂直熔炉系统正可以支持此类应用。华亚晶圆制造副总刘大维指出,与Aviza的合作是经过审慎评估后的结果,而Aviza产品的可靠性和制程灵活性,是受华亚青睐的关键。

华亚所购置的Aviza 垂直熔炉系统RVP-300plus,是该公司相关系列产品最先进并且可大量生产的垂直熔炉,并经过生产线的实际验证,在芯片上可得到高良率水平,并支持低压化学气相沉积(LPCVD)等制程。特性包括大容量(16×25)的晶圆 FOUP 仓储系统、可降低芯片卸除与冷却步骤周期的双载体功能,并具备高晶圆负载量、高级温度控制(ATC)以及快速升温与快速冷却等优点。

Aviza为高温处理、低压化学相沉积原子层沉积解决方案供货商,该公司销售与客户支持网遍布全球,在德国、法国、苏格兰、台湾、日本、中国、南韩、新加坡及马来西亚等地皆设有支持据点,在全球拥有近 500 名员工。

關鍵字: Aviza  华亚  半导体制造与测试 
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