诺发系统近日宣布，该公司与东菲什克尔的IBM、纽约奥尔巴尼的纽约大学奈米科学与工程学院（CNSE），日前于CNSE的Albany奈米科技中心共同成立策略合作联盟 ，将致力于发展22奈米以及更小世代的半导体制程技术的解决方案。

先进的45奈米和32奈米的半导体电路已进入量产，28奈米及更小世代的产品则正在进行开发。每进入一个更小的世代，就能促成体积更小、速度更快，并兼具更高效能的芯片，同时，也直接提高了产品的性能。受惠的对象则涵括服务器至智能型手机。

这个技术联盟成立后的第一个项目，将发展使用于28奈米和22奈米制程的无残留物先进光阻剥除技术。光阻剥除是半导体芯片布线的关键技术，此次合作的范围将包含一系列光阻剥除制程，包括高剂量植入光阻剥除制程兼容于高介电金属闸极的技术，以及对极低介电系数材料无损伤的化学蚀刻技术之发展。

诺发系统表示，IBM在半导体技术发展与制造的经验和成就，可以帮助这个团队加速在28奈米以及更小世代制程的开发。IBM位于East Fishkill的半导体工厂和CNSE学院的Albany奈米科技中心，将使用诺发系统的GxT先进光阻去除平台研发新的精密光阻剥除去应用。诺发系统在GxT平台上可表现出卓越的清洗效果，藉由导入特有的无氧化化学去除技术，成功实现了硅和氧化物损失小于0.1奈米的成果。CNSE学院则可在Albany奈米科技中心，提供第一流水平的技术人才与科技设施。