台积电资深研发副总蒋尚义日前表示，目前台积电已有40多项90奈米产品导入试产，预计将在1年后导入量产，但因90奈米制程市场需求增加速度可能不及0.13微米制程，估计三年以后客户才会大量使用此先进制程。

蒋尚义是于第11届VLSI研讨会上，应邀发表台积电65奈米、45奈米、32奈米制程的湿式曝光技术（Immersion Lithography）发展状况，他表示，曝光机设备商因应65奈米制程所需光罩，已投注以10亿美元计的资金于波长157奈米曝光机台的研发工作上。

而蒋尚义也进一步解释台积电近日已多次对外介绍的「湿式显影技术」（Immersion Lithography），推估显影设备厂商将在2004年底前推出193奈米的「湿式显影机」雏型机，届时台积电也会针对湿式显影技术，在研发部门内成立专属团队进行开发。

蒋尚义表示，希望该技术能成为65奈米制程以下光罩技术的主流，目前台积电在该技术的相关智财权上，已占据了有利位置。他指出，这个技术最多可支持到约32奈米制程世代，机台原型预计2004年下半将交货台积电，届时台积电内部将组成相关研发团队全力开发。