益华计算机(Cadence)与ASML的MaskTools事业群，宣布签署一份为期数年、价值数百万美元的软件授权，合作开发先进分辨率增进技术（Resolution Enhancement Technology: RET）软件解决方案。两家公司将会密切合作，共同开发整合的DFM（Design for Manufacturability）流程。

在此协议下，Cadence益华计算机将会授权并合作开发两个ASML MaskTools软件套件：MaskWeaver，一个全芯片RET（full-chip RET）、具有光学邻近效应修正功能（optical proximity correction，OPC）光罩软件优化解决案，以及LithoCruiser，一个具有微影制程分析功能的软件优化解决方案。

前Cadence益华计算机执行副总裁暨总经理Lavi Lev表示，"微影技术在65奈米与65奈米以下的制程强调的是，设计与微影技术之间一个新层级的互相依赖性。我们的客户可藉由最先进设计工具与分辨率增进技术，来缩短生产时程并增进产量。"有了这个新的协议，Cadence的客户便可以在ASML MaskTools的开发小组的技术协助下，取得尖端的RET与微影技术仿真软件。"

ASML MaskTools总裁暨执行长Dinesh Bettadapur表示，"虽然ASML与Cadence益华计算机从不同的技术领域得到客户的肯定，但双方拥有许多共同的客户。Cadence益华计算机是EDA软件领域中公认的领导者，而ASML MaskTools则在创新的制造技术与软件产品上成名已久。我们将会一起为芯片设计师与制造厂商提供最完整的DFM产品组合。"