自英特尔（Intel）名誉主席Gordon Moore于今年7月对外表示，唯有开发EUV（超紫外光线）技衖，摩尔定律才能再次回到二年一个周期的定律，根据外电消息，欧洲、日本为达到半导体技术领先的目标，不惜巨资投资开发EUV系统；众多欧盟成员国未来将对EUV各项领域，投资1亿美元研发；日本多企业也分别成立EUV计画小组。欧、日商预计2005年推出试用EUV设备。

在EUV技术发展早期，丹麦的光蚀刻设备供应商ASML就已处在领先的地位，为欧洲该领域的代表。据了解，日本包括Canon、Nikon、Komatsu、Ushio、Gigaphoton等公司，目前已分别成立EUV计画小组；Canon、Nikon预计于2005年底，推出试用版的EUV设备。

EUV已成为半导体产​​业发展的瓶项之一，EUV技术专家们每年修订一次内容，重新修订了下一代超紫外线（EUV）光蚀刻技术光源的输出功率问题。 EUV LLC的总监Chuck Gwyn表示，雷射和气体放电EUV光源，到目前为止输出功率只达5～10瓦，仍不足以满足高吞吐量之功率高达100瓦的光蚀刻设备。