晶圆代工大厂台积电宣布该公司顺利使用浸润式微影（immersion lithography）机台生产90奈米芯片，并且通过功能验证。该公司并在12月初在日本举办的一场半导体展中以主题演讲方式率先发表此项成果。

台积电微制像技术发展处资深处长林本坚表示，该公司成功使用浸润式曝光技术产出90奈米芯片，主要的制程步骤都在公司内部完成，只有其中一层光罩的曝光、显影，曾送至荷兰ASML借用其浸润式曝光扫描原型机台进行作业。

台积电的第一部65奈米制程浸润式微光机台于11月在晶圆12 厂装设，目前仍在评估是否于65奈米制程，即开始为客户进行量产，至于45奈米制程，则已确定采用此一技术。