据业界消息，台积电积极推动的半导体新一代技术浸润式（immersion）微影技术，又向前迈进一步，该公司向设备大厂ASML采购的193奈米雏形机已经运抵新竹，并正式移入台积电12厂，台积电研发部门将利用该设备进行相关制程研发，并预计于65奈米世代量产此技术。

据了解，ASML的雏形机台可说是台积电首次主导业界规格的新设备，另两家半导体设备厂日本Cannon与Nikon，也将在2005年陆续推出浸润式193奈米微影设备。而国际半导体技术蓝图（ITRS）年会，也已正式将浸润式微影技术列入ITRS的讨论项目之中。

原本全球三大半导体微影设备厂发展157奈米微影技术，整个光源、显影剂、光罩、及蚀刻材料都需大翻新，研发成本较193奈米技术至少倍增。193奈米浸润式微影设备的问世，晶圆厂只需支出较193奈米「干式」微影设备多出约一、二成的价格，即可达到原本157奈米显影机才能处理的微细线宽，因此该设备成为全球各大半导体厂商间的抢手货。

浸润式微影技术最主要的推动者是台积电微制像技术发展处资深处长林本坚；林本坚十多年前从美国IBM退休以后，于2000年至台积电主持微影技术研发，近二年来奔走于国际间微影技术相关研讨会，鼓吹业界考虑浸润式技术的可行性。