账号:
密码:
最新动态
产业快讯
CTIMES/SmartAuto / 新闻 /
0.13微米晶圆制程 出现前置时间延长迹象
 

【CTIMES / SMARTAUTO ABC_1 报导】    2003年07月07日 星期一

浏览人次:【4896】

据网站SBN报导,晶圆代工产业分析师观察指出,目前先进晶圆制程的供不应求情况有明显恶化趋势,目前0.13微米制程前置时间(lead time)已从4月份的13~14周,延长至17周左右;但对于该说法,台积电发言人却认为有些点过高。

半导体业晶圆代工需求有逐渐回温的迹象,其中先进制程需求增长尤其明显,据估计,现阶段先进制程产能利用率已达95%左右,而台积电、联电、IBM微电子(IBM Microelectronics)、特许半导体(Chartered Semiconductor)等业者0.13微米制程前置时间皆已延长。所谓前置时间,指的是半导体业者向晶圆代工厂下单后到出货日的时间间距;Pacific Crest Securities晶圆代工产业分析师Michael McConnell表示,0.13微米制程产能不足是导致前置时间延长的主因。

Michael McConnell指出,现以0.13微米技术制造的IC产品,下单后就得花上3周的时间排队等候处理订单。但事实上以0.13微米技术制造IC平均有35层layer计,每层layer约只需要2天半的时间。但对于McConnell所言先进制程前置时间延长至17周,台积电发言人指出,这个数字听来有点过高,该公司前置时间至多应只达14周左右。

尽管4大晶圆代工厂先进制程产能皆有不足的状况,但提及产能扩充,部份业者仍持观望态度。以台积电为例,旗下大客户摩托罗拉(Motorola)、ATi、Nvidia、Broadcom、Altera等对0.13微米技术需求愈趋强劲,McConnell指出,台积电先进制程订单明显倍增,却未导致台积电积极扩充此部份产能,该公司仍计划待市场景气更为明朗时再有所动作。

關鍵字: 台積電 
相关新闻
2025国际固态电路研讨会展科研实力 台湾21篇论文入选再创新高
新思科技与台积电合作 实现数兆级电晶体AI与多晶粒晶片设计
Ansys、台积电和微软合作 提升矽光子元件模拟分析速度达10倍
台积电扩大与Ansys合作 整合AI技术加速3D-IC设计
矽光子产业联盟正式成立 将成半导体业『The Next Big Thing』
comments powered by Disqus
相关讨论
  相关文章
» 挥别制程物理极限 半导体异质整合的创新与机遇
» 跨过半导体极限高墙 奈米片推动摩尔定律发展
» 未来无所不在的AI架构导向边缘和云端 逐步走向统一与可扩展
» 关於台积电的2奈米制程,我们该注意什麽?
» 灯塔工厂的关键技术与布局


刊登廣告 新聞信箱 读者信箱 著作權聲明 隱私權聲明 本站介紹

Copyright ©1999-2024 远播信息股份有限公司版权所有 Powered by O3  v3.20.1.HK8BU2WMH70STACUKC
地址:台北数位产业园区(digiBlock Taipei) 103台北市大同区承德路三段287-2号A栋204室
电话 (02)2585-5526 #0 转接至总机 /  E-Mail: [email protected]